据QYResearch调研团队最新报告“全球光刻胶清洗液市场报告2023-2029”显示，预计2029年全球光刻胶清洗液市场规模将达到16.9亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.4%。

  根据研究团队调研统计，2023年全球光刻胶清洗液市场销售额达到了56亿元，预计2030年将达到180亿元，年复合增长率（CAGR）为18.3%（2024-2030）。中国市场在过去几年变化较快，2023年市场规模为 亿元，约占全球的 %，预计2030年将达到 亿元，届时全球占比将达到 %。

  作为半导体晶片制作的完整过程的一部分，许多层去除技术用于从衬底表面去除任何不需要的层，同时尽量不引入任何污染。光刻胶是一种光敏有机材料，可以在光刻期间应用，在表明产生图案化涂层，以保护电子制造步骤中下面的无机层。 因此，光刻胶层需要在制作的完整过程结束时通过光刻胶清洗液（Photoresist Cleaners）去除。全球光刻胶清洗液核心厂商包括东进世美肯、杜邦、Merck KGaA（Versum Materials）、ENF Tech等，前五大厂商占有全球大约73%的份额。韩国是全球最大的市场，占有接近43%的市场占有率。就产品而言，正性光刻胶剥离剂是最大的细分，市场占有率超过66%。在应用方面，主要使用在在LCD/OLED，份额超过53%。

  本文侧重研究全球光刻胶清洗液总体规模及主要厂商占有率和排名，主要统计指标包括光刻胶清洗液产能、销量、出售的收益、价格、市场占有率及排名等，企业数据主要侧重近三年行业内主要厂商的市场销售情况。地区层面，主要分析过去五年和未来五年行业内主要生产地区和主要消费地区的规模及趋势。

  行业层面，着重关注有几率存在“卡脖子”的高科技细致划分领域。企业层面，着重关注在国际和国内市场在规模和技术等层面有代表性的企业，挖掘出各个行业的国家级“专精特新”企业，以全球视角，深度洞察行业竞争态势、发展现状及未来趋势。返回搜狐，查看更加多